序号

设备名称

数量

参数

是否进口

1

氦循环低温磁光克尔成像系统

1台

一、克尔成像：

大面积实时输出背景扣除的克尔成像信息，帧率不小于30帧/秒，信噪比大于30,000：1。LED磁畴识别能力达到500 nm及动态观测能力，输入激光最小光斑可达1um。

具备面内各向异性及垂直各向异性磁性材料及器件的磁畴检测能力。且磁光克尔三种测量模式可方便切换（30s内）。

二、高集成度软件：

在磁场，低温，外加电场，激光激发的测量条件下，实时实现磁畴成像及定点的高精度磁滞回线分析。

三、磁场强度：

★3.1垂直磁场：最大可到1.4 T@ 1cm 间隙，配合低温腔时，磁场不低于0.5 T。

★3.2面内磁场：在一维磁场状态下，可达0.7 T@ 1cm 间隙。

四、样品测试：

4.1在变温条件下测试垂直各向异性材料（铁磁层可小于2nm）的磁畴反转过程,成像清晰，拍摄速度达到30帧/秒。

4.2在变温条件下测试面内各向异性材料的磁畴反转过程,成像清晰，拍摄速度达到30帧/秒。

五、设备平台：

5.1隔震台：配备气动悬浮的光学隔震台，光学平台需要稳固的承受电磁铁的重量。

5.2探针组件及样品台：光学平台要求配备磁吸的四套高精度XYZ探针调整架，及DC探针组件。

六、磁光克尔显微镜系统：

6.1显微镜主体：正置式偏光显微镜。配置超长工具距离物镜，可与低温设备、磁场设备兼容，物镜放大倍率 5X, 20X, 100X，工作距离不小于6.0 mm。100倍分辨率1 µm，兼容探针测量、磁场、低温。

★6.2成像系统：不低于400万像素 （不低于2048 * 2048）；30帧/秒；量子效率不低于80%；动态范围不低于30,000：1。

6.3专业数据处理硬件。

七、低温设备：

7.1 低温冷却系统一套。

7.2 机械泵+分子泵组合一套。

7.3 提供电测量所需要的样品托，连接线等。

★7.4 无液氦消耗冷氦气低温闭循环系统，温度范围10K-450K；降温速率：≥ 5K/分钟@300K—50K；≤ 1小时@50K降温至10K；升温速率：≤ 30分钟@10K升温到换样温度；温度稳定性：0.1K@10K—450K。

7.5 低温恒温器模式下系统振动在100X物镜下不明显。

八、激光测量高精度磁滞回线：

8.1激光光斑在样品处1um。

8.2高精度一体化光学检偏模组，针对激光做出性能优化，全功率测试范围内拥有<1%的线性度误差。

九、磁光克尔程序包含：

9.1高精度（锁相放大器）磁滞回线测量。

9.2磁光克尔成像（实时图片处理，磁滞回线提取，视频记录磁场翻转）。

9.3程控实现测试模式的切换（极向，纵向，横向）。

9.4 配合多物理场（如温度、磁场、栅压电场、脉冲电流等）控制实现电学、磁学、光学同步测量。

否